研磨分散均質(zhì)乳化一體機

太倉希德研發(fā)的一體化研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。該設(shè)備是由SID膠體磨在原來立式分體結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)上進行進一步改造，配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)的精密零部件，使其工作噪音降低到73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。并且在膠體磨的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，并加入了一級分散盤。

GMD2000研磨分散機有一定輸送能力，對有一定粘稠度物料，該設(shè)備設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

本設(shè)備在設(shè)計上的突出優(yōu)點在于：

1.可更換式加工模塊，實現(xiàn)分散、均質(zhì)、乳化、懸浮、濕磨、 粉液混合等多種功能。
2.專為實驗室模擬工業(yè)管線式生產(chǎn)而設(shè)計，從中試到生產(chǎn)，無需重新調(diào)整工藝參數(shù) 。
3.雙端面機械密封，可以實現(xiàn)連續(xù)24小時不間斷運轉(zhuǎn)。
4.可配置變頻控制柜，調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速及流量 。
5.拆卸方便，容易清洗。
6.設(shè)備設(shè)計合理，方便實用。 

特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不單單是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個重要的區(qū)別是：不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

研磨分散均質(zhì)乳化一體機的特點：

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計理念，將xian進的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計中，為設(shè)備穩(wěn)定運行提供了保證.

新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供chao強切割力，纖維濕法研磨破碎可達400目.

更可靠 采用整體式機械密封，程度上解決了高速運轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題，安裝與更換方便快捷.

新技術(shù) 采用國際xian進的受控切割技術(shù)，將纖維類物料粉碎細度控制在設(shè)定范圍之內(nèi)，滿足生產(chǎn)中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.